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Recubrimiento de recubrimiento por pulverización catódica de iones de magnetrón de alto vacío de CC o RF de laboratorio

Persona de contacto:Gilia Ding


Correo electrónico: gilia@inthelaboratory.com

Tel:+86 177 5900 4070
Teléfono:+86-177-59004070
Whatsapp: +86 177 5900 4070
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  • Artículo No.:

    LITH-650MH
  • Pago:

    L/C, T/T, Western Union, Credit Cards, Paypal
  • Tiempo de espera:

    7 days
  • Cumplimiento:

    CE Certified
  • Garantía:

    Two years limited standard warranty
  • Detalle del producto

Recubrimiento de pulverización catódica de iones de magnetrón de alto vacío de CC o RF de laboratorio 


recubridor  

 



Introducción

El recubridor de pulverización iónica magnetrónica de alto vacío   es ideal y está diseñado para la ciencia de los materiales y la preparación de muestras. Es ampliamente utilizado para la mayoría de las universidades e institutos de investigación científica de ciencia e ingeniería de materiales para recubrir metales, cerámicas, semiconductores, aisladores u otros tipos de preparación de materiales de membrana.

El recubridor de pulverización catódica de iones de magnetrón de alto vacío proporciona el entorno de pulverización catódica más estable y logra las condiciones experimentales básicas de la pulverización catódica de magnetrón en un período de tiempo muy corto. Proporciona dos tipos de opciones de potencia de pulverización de CC/RF que permiten la pulverización de sustancias conductoras o no conductoras en la muestra y mejora el rendimiento de la deposición física de vapor (PVD). También es excelente para el tratamiento y recubrimiento de superficies.  Es fácil de operar y fácil de usar también.

La bomba de vacío y el enfriador están incluidos.

 


Parámetro

Conjunto de  bomba de vacío 

( Se requiere aceite  ) bomba de vacío  rotativa ( sin aceite  conjunto de bomba turbomolecular 

Velocidad de  bombeo rotativo  _

50 Hz: 16 / h (4,4 L/s)/ 60 Hz: 19,2 /h (5,2 L/s) 

Velocidad de   bombeo molecular _

300 L/ s

Límite de vacío 

5x10 -5 Pa

 Presión de trabajo

0,5-5 Pa

Pasandome la aspiradora 

>10 minutos (10 -3 Pa)

 Medida de vacío

Rango de medición desde atmósfera hasta  1*10 Pa

Control de gas 

 Controlador de flujo de gas 

tamaño de la cámara 

φ260 *200mm (altura)  metal

 Fuente objetivo de magnetrón  _

Tamaño del objetivo φ 50*3 mm (Cu)/ fuente del objetivo sustancia /  m  ateriales magnéticos débiles

M étodo de operación 

Manual de instrucciones

Peso / tamaño

100 kg/610 mm de largo x 420 mm de ancho x 490 mm de alto 

Fuente  de alimentación

CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz

Consumo de energía 

<3000W

 Método de enfriamiento

 Refrigeración por aire ( bomba ) +  refrigeración por agua  ( objetivo de pulverización  )

Garantía

Garantía limitada de un año con soporte de producto de por vida 


Recubridor de pulverización catódica RF

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